Feedback system to control reactive magnetron sputtering

Varování

Publikace nespadá pod Pedagogickou fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Autoři	KLEIN Peter VAŠINA Petr SCHMIDTOVÁ Tereza
Rok publikování	2012
Druh	Článek ve sborníku
Konference	Potential and Applications of Surface Nanothreatment of Polymers and Glass
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	sputtering; magnetron; hysteresis
Popis	The process of reactive magnetron sputtering of titanium with oxygen inlet was studied. Thanks to feedback system Speedflo the process was able to stabilise itself in former unstable hysteresis region. The results of the experiments in hysteresis region let to improvements in theoretical model based on Berg’s model.
Související projekty:	Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy Porozumění hybridnímu PVD-PECVD procesu s cílem řídit růst nanostrukturovaných kompozitních vrstev