On sputtered particle distribution towards substrate during target erosion - simulation and experiment

Varování

Publikace nespadá pod Pedagogickou fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Autoři	KLEIN Peter VAŠINA Petr SCHMIDTOVÁ Tereza
Rok publikování	2013
Druh	Článek ve sborníku
Konference	PAPN 2013: Book of extended abstracts
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	Sputtering; Magnetron; Monte Carlo simulation; Compound material
Popis	It is commonly observed that thin layers, especially formed by compound material deposited in planar magnetron using the same deposition manners, can have slightly different properties and composition. This research shows that one of the important factors to be considered thinking about fluxes of different species on the substrate is the target erosion state. Using Monte Carlo simulation optimal conditions for reproducibly depositing thin layer were calculated.
Související projekty:	CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy Porozumění hybridnímu PVD-PECVD procesu s cílem řídit růst nanostrukturovaných kompozitních vrstev