Preparation of (001) preferentially oriented titanium thin films by ion-beam sputtering deposition on thermal silicon dioxide

Logo poskytovatele

Varování

Publikace nespadá pod Pedagogickou fakultu, ale pod Středoevropský technologický institut. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Autoři

GABLECH Imrich SVATOŠ Vojtěch CAHA Ondřej HRABOVSKY Milos PRASEK Jan HUBÁLEK Jaromír ŠIKOLA Tomáš

Rok publikování 2016
Druh Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj Journal of materials science
Fakulta / Pracoviště MU

Středoevropský technologický institut

Citace
www http://link.springer.com/article/10.1007%2Fs10853-015-9648-y
Doi http://dx.doi.org/10.1007/s10853-015-9648-y
Obor Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Klíčová slova titanium; sputtering; x-ray diffraction
Popis We propose the ion-beam sputtering deposition providing Ti thin films of desired crystallographic orientation and smooth surface morphology not obtainable with conventional deposition techniques such as magnetron sputtering and vacuum evaporation.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.