Relationship Between AFM and Optical Measurements at Analyzing Surface Roughness

Logo poskytovatele

Varování

Publikace nespadá pod Pedagogickou fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Autoři

OHLÍDAL Ivan FRANTA Daniel KLAPETEK Petr VIČAR Martin

Rok publikování 1999
Druh Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj Jemná mechanika a optika
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
www http://hydra.physics.muni.cz/~franta/bib/JMO1999_307.html
Obor Optika, masery a lasery
Popis In this paper a comparison of the values of the basic surface roughness parameters determined by atomic force microscopy and a combined optical method is performed for a chosen sample of SiO2-film with identically randomly rough boundaries placed onto a silicon single crystal wafer. The combined optical method is based on simultaneous interpretation of the experimental data corresponding to variable angle spectroscopic ellipsometry and near-normal spectroscopic reflectometry. It is shown that the comparison of the results achieved using both the methods mentioned can be successfully performed if the influence influence of individual spatial frequencies of the harmonic components of random surface roughness on the optical quantities measured is based into account.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.