Characterization of the boundaries of thin films of TiO2 by atomic force microscopy and optical methods

Logo poskytovatele

Varování

Publikace nespadá pod Pedagogickou fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Autoři

FRANTA Daniel OHLÍDAL Ivan KLAPETEK Petr POKORNÝ Pavel

Rok publikování 2002
Druh Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj Surface and Interface Analysis
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
www http://hydra.physics.muni.cz/~franta/bib/SIA34_759.html
Obor Fyzika pevných látek a magnetismus
Klíčová slova TiO2 thin films; optical characterization; AFM; boundary roughness
Popis In this paper slight roughness of the upper boundaries of TiO2 thin films prepared on substrates formed by single-crystal silicon is studied. Atomic force microscopy (AFM) and an optical method based on combining variable-angle spectroscopic ellipsometry and near-normal spectroscopic reflectometry are used for this purpose. It is shown that the values of the basic statistical quantities characterizing this roughness depend quite strongly on the values of the thicknesses of these films (they increase with increasing thickness). Differences observed between the values of the basic statistical parameters determined by AFM and the optical method are explained. It is also shown that the TiO2 films exhibit an inhomogeneity represented by a profile of the complex refractive index.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.