Influence of Silicon, Oxygen and Nitrogen Upon the Properties of Plasma Deposited Amorphous Diamond-like Carbon Coatings

Varování

Publikace nespadá pod Pedagogickou fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Název česky Vliv příměsí křemíku, kyslíku a dusíku na vlastnosti amorfních diamantu podobných uhlíkových vrstev deponovaných v plazmatu
Autoři

BURŠÍKOVÁ Vilma ZAJÍČKOVÁ Lenka DVOŘÁK Pavel VALTR Miroslav BURŠÍK Jiří BLÁHOVÁ Olga PEŘINA Vratislav JANČA Jan

Rok publikování 2006
Druh Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj Journal of advanced oxidation technologies
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova Silicon; Oxygen; Nitrogen; Admixtures; PECVD; Amorphous Diamond-like Carbon Coatings
Popis Amorphous diamond-like carbon films (DLC) with various silicon, oxygen and nitrogen content were deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) technique. The films were prepared from the mixture of methane and hexamethyldisiloxane (HMDSO) in r.f. capacitively coupled discharges (13.56 MHz). The reactive plasma was investigated by optical emission spectroscopy and capacitive coupled planar probe. A combination of RBS, ERDA, FTIR and XPS methods was used to study the films' chemical composition and structure. The mechanical properties were studied using a depth sensing indentation technique. The films were mainly composed of C-C, C-H and C-Si bonds. The optimum deposition conditions for the preparation of DLC films, with enhanced thermo-mechanical stability, were determined.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.