Influence of Silicon, Oxygen and Nitrogen Upon the Properties of Plasma Deposited Amorphous Diamond-like Carbon Coatings

Varování

Publikace nespadá pod Pedagogickou fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Vliv příměsí křemíku, kyslíku a dusíku na vlastnosti amorfních diamantu podobných uhlíkových vrstev deponovaných v plazmatu
Autoři	BURŠÍKOVÁ Vilma ZAJÍČKOVÁ Lenka DVOŘÁK Pavel VALTR Miroslav BURŠÍK Jiří BLÁHOVÁ Olga PEŘINA Vratislav JANČA Jan
Rok publikování	2006
Druh	Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj	Journal of advanced oxidation technologies
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	Silicon; Oxygen; Nitrogen; Admixtures; PECVD; Amorphous Diamond-like Carbon Coatings
Popis	Amorphous diamond-like carbon films (DLC) with various silicon, oxygen and nitrogen content were deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) technique. The films were prepared from the mixture of methane and hexamethyldisiloxane (HMDSO) in r.f. capacitively coupled discharges (13.56 MHz). The reactive plasma was investigated by optical emission spectroscopy and capacitive coupled planar probe. A combination of RBS, ERDA, FTIR and XPS methods was used to study the films' chemical composition and structure. The mechanical properties were studied using a depth sensing indentation technique. The films were mainly composed of C-C, C-H and C-Si bonds. The optimum deposition conditions for the preparation of DLC films, with enhanced thermo-mechanical stability, were determined.
Související projekty:	Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek