Comparison of structure and mechanical properties of SiO2-like films deposited in O2/HMDSO pulsed and continuous plasmas

Varování

Publikace nespadá pod Pedagogickou fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Název česky Srovnání struktury SiO2-podobných vrstev deponovaných v pulzním a kontinuálním O2/HMDSO plazmatu
Autoři

BOSQUET Angelique BURŠÍKOVÁ Vilma GOULLET A. DJOUADI A. ZAJÍČKOVÁ Lenka GRANIER Agnes

Rok publikování 2006
Druh Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj Surface & coatings technology
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova SILICON DIOXIDE; COATINGS
Popis Srovnání struktury SiO2-podobných vrstev deponovaných v pulzním a kontinuálním O2/HMDSO plazmatu
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.