Some electrical properties of SiOxHyCz thin films prepared by PECVD

Varování

Publikace nespadá pod Pedagogickou fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Název česky Některé elektrické vlastnosti SiOxHyCz tenkých vrstev vytvořených PECVD
Autoři

FRANCLOVÁ Jana

Rok publikování 2007
Druh Článek ve sborníku
Konference New Trends in Physics
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova Frenkel Poole effect conduction mechanisms PECVD
Popis SiOxHyCz tenké vrstvy byly připravené plazmochemickou depozicí na skleněných substrátech při odlišných depozičních podmínek na skleněný substrát. Hliníkové elelktrody byly vakouvě napařené a jejich tloušťka byl a asi 100nm. V tomto sandwičovém uspořádání byly měřeny VA chararkteristiky. Z těcjto charakteristik lze usuzovat, že vodivostní mechanismus je Poole-Frenkelova vodivost.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.