Preparation and characterisation of carbon films prepared from HMDSZ/Methane/Nitrogen or Hydrogen mixture using PECVD

Varování

Publikace nespadá pod Pedagogickou fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Autoři	KELAR Lukáš BURŠÍKOVÁ Vilma BOCHNÍČEK Zdeněk
Rok publikování	2008
Druh	Konferenční abstrakty
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Popis	Carbon films are often used in various applications. In case of HDLC (amorphous hydrogenated carbon) there may be a problem with internal stress in the film, which can cause cracking or delamination of all the film. It is known that silicon incorporation into the film decreases the internal stress in the film. The aim of the present work was to study the effect of the negative self-bias voltage and the HMDSZ (Si2NC6H19) content in the deposition mixture on the properties of thin films prepared from HMDSZ/methane/nitrogen or hydrogen or argon mixtures.
Související projekty:	Depozice termomechanicky stabilních nanostrukturovaných diamantu-podobných tenkých vrstev ve dvojfrekvenčních kapacitních výbojích