Carbon nanotubes deposition by plasma enhanced chemical vapor deposition
| Název česky | Depozice uhlíkových nanotrubek metodou depozice z plynné fáze s asistencí plazmatu |
|---|---|
| Autoři | |
| Rok publikování | 2006 |
| Druh | Článek ve sborníku |
| Konference | Proceedings Electronic devices and systems 2006 IMAPS CS International Conference |
| Fakulta / Pracoviště MU | |
| Citace | |
| Obor | Fyzika plazmatu a výboje v plynech |
| Klíčová slova | carbon nanotubes; plasma enhanced chemical vapor depostion; catalyst; electron microscopy |
| Popis | Uhlíkové nanotrubky se díky svým vlastnostem dostaly do popředí zájmu v mnoha aplikačních oblastech. Pro mnohé aplikace je však stále potřeba vyvinout metody depozice umožňující co nejpřesnější kontrolu vlastností deponovaných nanotrubek a také jejich uspořádání popřípadě přesné umisťování. Metody depozice s plynné fáze (CVD) popřípadě také v plazmatu (PECVD) se jeví jako velmi slibné pro dosažení těchto cílů. V úvodní části stručně shrneme vlastnosti a popis struktury uhlíkových nanotrubek a uvedeme základní podmínky a postupy při depozici uhlíkových nanotrubek metodou PECVD. V druhé části se pak budeme stručně věnovat depozici uhlíkových nanotrubek ve dvou experimentech s odlišnými depozičními podmínkami(depozice za nízkého tlaku a depozice za atmosférického tlaku). |
| Související projekty: |