Carbon nanotubes deposition by plasma enhanced chemical vapor deposition

Logo poskytovatele

Varování

Publikace nespadá pod Pedagogickou fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Název česky Depozice uhlíkových nanotrubek metodou depozice z plynné fáze s asistencí plazmatu
Autoři

JAŠEK Ondřej ELIÁŠ Marek ZAJÍČKOVÁ Lenka KUČEROVÁ Zuzana KUDRLE Vít MATĚJKOVÁ Jiřina REK Antonín BURŠÍK Jiří

Rok publikování 2006
Druh Článek ve sborníku
Konference Proceedings Electronic devices and systems 2006 IMAPS CS International Conference
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova carbon nanotubes; plasma enhanced chemical vapor depostion; catalyst; electron microscopy
Popis Uhlíkové nanotrubky se díky svým vlastnostem dostaly do popředí zájmu v mnoha aplikačních oblastech. Pro mnohé aplikace je však stále potřeba vyvinout metody depozice umožňující co nejpřesnější kontrolu vlastností deponovaných nanotrubek a také jejich uspořádání popřípadě přesné umisťování. Metody depozice s plynné fáze (CVD) popřípadě také v plazmatu (PECVD) se jeví jako velmi slibné pro dosažení těchto cílů. V úvodní části stručně shrneme vlastnosti a popis struktury uhlíkových nanotrubek a uvedeme základní podmínky a postupy při depozici uhlíkových nanotrubek metodou PECVD. V druhé části se pak budeme stručně věnovat depozici uhlíkových nanotrubek ve dvou experimentech s odlišnými depozičními podmínkami(depozice za nízkého tlaku a depozice za atmosférického tlaku).
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.