Deposition of protective coatings in rf organosilicon discharges

Varování

Publikace nespadá pod Pedagogickou fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Název česky Depozice ochranných vrstev ve vysokofrekvenčních výbojích v parách organosilikonu
Autoři

ZAJÍČKOVÁ Lenka BURŠÍKOVÁ Vilma KUČEROVÁ Zuzana FRANTA Daniel DVOŘÁK Pavel ŠMÍD Radek PEŘINA Vratislav MACKOVÁ Anna

Rok publikování 2007
Druh Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj Plasma Sources Science and Technology
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova CARBON-FILMS; GLOW-DISCHARGES; PLASMA; PECVD; POLYCARBONATE; SUBSTRATE
Popis Článek diskutuje depozici různých typů ochranných vrstev, organosilikonových plazmových polymerů, SiO2 vrstev a tvrdých uhlíkových diamantu podobných vrstev s obsahem SiOx (DLC:SiOx), ve vysokofrekvenčním kapacitně vázaném výboji s použitím hexametyldisiloxanu (HMDSO). Vrstvy připravené z HMDSO/CH4 a HMDSO/CH4/H2 směsí vykazovaly atraktivní vlastnosti DLC vrstev s částečným optlačením jejich některých nevýhod jako jsou absorpce ve viditelné oblasti a vysoké vnitřní pnutí.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.