Organosilicon thin films deposited by plasma enhanced CVD: Thermal changes of chemical structure and mechanical properties

Varování

Publikace nespadá pod Pedagogickou fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Název česky Organosilikonové tenké vrstvy připravené metodou PECVD: termálně indukované změny chemické struktury a mechanických vlastností
Autoři

ZAJÍČKOVÁ Lenka BURŠÍKOVÁ Vilma KUČEROVÁ Zuzana FRANCLOVÁ Jana SŤAHEL Pavel PEŘINA Vratislav MACKOVÁ Anna

Rok publikování 2007
Druh Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj Journal of Physics and Chemistry of Solids
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova Thin films;Organometallic compounds;Plasma deposition;Infrared spectroscopy;Mechanical properties
Popis Tenké organosilikonové vrstvy a vrstvy oxidu křemíku byly deponovány ve v.f. kapacitně vázaném výboji ze směsi HMDSO s kyslíkem
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.