DEPOSITION OF THIN FILMS IN ATMOSPHERIC PRESSURE HOMOGENEOUS DISCHARGE

Logo poskytovatele

Varování

Publikace nespadá pod Pedagogickou fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Název česky Depozice tenkých vrstev v homogenním výboji za atmosférického tlaku
Autoři

TRUNEC David ŠÍRA Martin SŤAHEL Pavel BURŠÍKOVÁ Vilma

Rok publikování 2008
Druh Článek ve sborníku
Konference Proccedings of HAKONE X
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova electrical discharge; atmospheric pressure; nitrogen
Popis The atmospheric pressure homogeneous discharge was used for the deposition of thin organosilicon polymer films. The discharge was burning in pure nitrogen used as a carrier gas and a small admixture of hexamethyldisiloxane which was used as a monomer. The temperature of the substrate was elevated up to 120 C to obtain harder thin films. The homogeneity of thin films was enhanced using movable upper electrode. Electrical measurements were used to distinguish between homogeneous and filamentary regime. Mechanical properties of deposited films were characterized by depth sensing indentation technique. The films were polymer-like, transparent in visible range, with uniform thickness and without pinholes.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.