Hybrid PVD-PECVD sputtering deposition process - from properties of deposited films to process characteristics

Logo poskytovatele

Varování

Publikace nespadá pod Pedagogickou fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Název česky Hybridní PVD-PECVD proces - od vlastností deponovaných vrstev k vlastnostem procesu
Autoři

ELIÁŠ Marek SOUČEK Pavel VAŠINA Petr

Rok publikování 2009
Druh Článek ve sborníku
Konference Book of Abstracts, Frontiers in Low Temperature Plasma Diagnostics 8
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova hybrid PVD-PECVD
Popis Hybridní PVD-PECVD proces - od vlastností deponovaných vrstev k vlastnostem procesu, sborník
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.