Reactive magnetron sputtering - modelling of different target utilization in metallic and compound mode and situation when oxygen and hydrogen are added simultaneously

Varování

Publikace nespadá pod Pedagogickou fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Reaktivní magnetronové naprašování - modelování různého využítí terče a situace když je kyslík a vodík připouštěn současně
Autoři	VAŠINA Petr SCHMIDTOVÁ Tereza
Rok publikování	2009
Druh	Konferenční abstrakty
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Popis	Reaktivní magnetronové naprašování - modelování různého využítí terče a situace když je kyslík a vodík připouštěn současně, sborník
Související projekty:	Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev