Modeling of reactive magnetron sputtering deposition process - different target utilization, situation when O2 and H2 are added simultaneously

Logo poskytovatele

Varování

Publikace nespadá pod Pedagogickou fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Název česky Modelování magnetronového naprašování - různé využití terče, situace s dvěma reaktivními plyny
Autoři

VAŠINA Petr SCHMIDTOVÁ Tereza

Rok publikování 2009
Druh Konferenční abstrakty
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
Popis Modelování magnetronového naprašování - různé využití terče, situace s dvěma reaktivními plyny, sborník
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.