Behaviour of hybrid PVD-PECVD process of Ti sputtering in argon and acetylene atmosphere

Logo poskytovatele
Logo poskytovatele

Varování

Publikace nespadá pod Pedagogickou fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Název česky Chování hybridního PVD-PECVD procesu Ti rozprašování v argonové a acetylenová atmosféře
Autoři

SCHMIDTOVÁ Tereza VAŠINA Petr

Rok publikování 2010
Druh Článek ve sborníku
Konference Potential and Applications of Nanotretment of Medical Surface
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova magnetron sputtering; modelling; hybrid process; hysteresis
Popis Hybridní naprašovací process PVD-PECVD byl studován pro případ rozprašování titanového terče v atmosféře argon, acetylen. Hybridní PVD-PECVD proces kombinuje aspekty obvyklého rozprašování kovového terče s plynným uhlovodíkem, který je zdrojem uhlíku. Zde prezentujeme a diskutujeme výrazné rozdíly mezi chováním obvyklého reaktivního magnetronového naprašování s takovýmto hybridním procesem.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.